热搜前三、黄仁勋表态！光刻机概念集体爆发

光刻机板块1月7日表现强势，芯源微20CM涨停；鼎龙股份大涨超10%；珂玛科技、华特气体、腾景科技、新莱应材等也明显上涨。

综合市场观点来看，光刻机的走强，在于AI的爆发带来算力需求的激增，从而导致存储芯片等产品的需求激增，进而带动半导体设备需求的激增。

以存储芯片为例，1月7日当天就有多个“爆炸性”消息。一是“1盒内存条堪比上海1套房”登上了微博热搜前三；二是黄仁勋在CES2026上表示，英伟达是世界上购买存储芯片最大的公司之一。

在供应趋紧，需求激增下，存储芯片进入了显著的涨价周期。国金证券表示，2025年DDR4 16Gb涨幅高达1800%，DDR5 16Gb涨幅高达500%，512Gb NAND闪存涨幅高达300%。另据财联社援引报道，三星与SK海力士近期已向服务器、PC及智能手机用DRAM客户提出涨价，2026年一季度报价将较2025年第四季度上涨60%-70%。

在这样的背景下，市场对于半导体设备的需求增长也有乐观预期。国际半导体产业协会（SEMI）最新数据显示，2025年全球原始设备制造商（OEM）的半导体制造设备总销售额预计达1330亿美元，同比增长13.7%，创历史新高。预计未来两年将继续增长，2026年和2027年分别达到1450亿美元和1560亿美元。

而光刻机是半导体设备中最复杂，价值量最高的一环。山西证券根据《半导体制造光刻机发展分析》统计，芯片生产产线建设中，光刻机购置成本最高，达到设备总投资的21%-23%，光刻工艺耗时占生产环节的一半，制造成本占到芯片制造成本的30%以上，光刻机成为半导体制造的核心设备。

有券商研报表示，从技术迭代来看，光刻机经历了UV（g-Line、i-Line）、DUV（KrF、ArF、ArFi）、EUV的历程。其中1990年代，深紫外（DUV）光源的应用，使工艺节点将至百纳米以下。2013年，极紫外（EUV）光源实现产业化，成为7nm及以下先进制程的关键方案。

从全球格局来看，国金证券表示，ASML（阿斯麦）凭借其在高端光刻机领域的技术优势，仍占据了全球光刻机市场大部分的份额，特别是在EUV光刻机领域，ASML是全球唯一的供应商。

个股而言，光刻机概念可关注整机研发（张江高科、苏大维格等）、核心部件（珂玛科技、赛微电子等）、配套设备（芯源微、新莱应材等）、配套材料（中船特气、航天智造等）等细分板块。

往后看，华创证券表示，政策端“02专项”体系化布局曝光光学，双工件台，漫液系统等核心环节，推动国产技术快速迭代，上海微电子，华卓精科等已在90nm ArF机型与双工件台实现突破。未来在政策，需求与验证三重驱动下，国产光刻机有望进入商业化加速阶段。